ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ರಿಕವರಿ ಪ್ಲಾಂಟ್ PSA ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಶುದ್ಧೀಕರಣ ಘಟಕ (PSA-H₂ಸಸ್ಯ)

(1) PSA-H2 ಸಸ್ಯ ಹೊರಹೀರುವಿಕೆ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ

ಫೀಡ್ ಗ್ಯಾಸ್ ಗೋಪುರದ ಕೆಳಗಿನಿಂದ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ಗೋಪುರವನ್ನು ಪ್ರವೇಶಿಸುತ್ತದೆ (ಒಂದು ಅಥವಾ ಹಲವಾರು ಯಾವಾಗಲೂ ಆಡ್ಸರ್ಬಿಂಗ್ ಸ್ಥಿತಿಯಲ್ಲಿರುತ್ತದೆ). ಒಂದರ ನಂತರ ಒಂದರಂತೆ ವಿವಿಧ ಆಡ್ಸರ್ಬೆಂಟ್‌ಗಳ ಆಯ್ದ ಹೊರಹೀರುವಿಕೆಯ ಮೂಲಕ, ಕಲ್ಮಶಗಳು ಹೊರಹೀರುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಗೋಪುರದ ಮೇಲ್ಭಾಗದಿಂದ ಹೊರಹೀರುವ H2 ಹೊರಹೋಗುತ್ತದೆ.

ಹೊರಹೀರುವಿಕೆಯ ಅಶುದ್ಧತೆಯ ಸಮೂಹ ವರ್ಗಾವಣೆ ವಲಯದ ಮುಂದಕ್ಕೆ ಸ್ಥಾನ (ಅಡ್ಸರ್ಪ್ಶನ್ ಫಾರ್ವರ್ಡ್ ಪೊಸಿಷನ್) ಬೆಡ್ ಲೇಯರ್‌ನ ನಿರ್ಗಮನ ಕಾಯ್ದಿರಿಸಿದ ವಿಭಾಗವನ್ನು ತಲುಪಿದಾಗ, ಫೀಡ್ ಗ್ಯಾಸ್‌ನ ಫೀಡ್ ವಾಲ್ವ್ ಮತ್ತು ಉತ್ಪನ್ನ ಅನಿಲದ ಔಟ್‌ಲೆಟ್ ಕವಾಟವನ್ನು ಆಫ್ ಮಾಡಿ, ಹೊರಹೀರುವಿಕೆಯನ್ನು ನಿಲ್ಲಿಸಿ. ತದನಂತರ ಆಡ್ಸರ್ಬೆಂಟ್ ಹಾಸಿಗೆಯನ್ನು ಪುನರುತ್ಪಾದನೆಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗೆ ಬದಲಾಯಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.

(2) PSA-H2 ಪ್ಲಾಂಟ್ ಈಕ್ವಲ್ ಡಿಪ್ರೆಶರೈಸೇಶನ್

ಹೊರಹೀರುವಿಕೆ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ನಂತರ, ಹೊರಹೀರುವಿಕೆಯ ದಿಕ್ಕಿನಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಒತ್ತಡದ H2 ಅನ್ನು ಹೊರಹೀರುವಿಕೆ ಗೋಪುರದಲ್ಲಿ ಇತರ ಕಡಿಮೆ ಒತ್ತಡದ ಹೊರಹೀರುವಿಕೆ ಗೋಪುರಕ್ಕೆ ಹಾಕಿ, ಅದು ಪುನರುತ್ಪಾದನೆಯನ್ನು ಪೂರ್ಣಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ. ಇಡೀ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಡಿಪ್ರೆಶರೈಸೇಶನ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಮಾತ್ರವಲ್ಲ, ಹಾಸಿಗೆಯ ಡೆಡ್ ಸ್ಪೇಸ್‌ನ H2 ಅನ್ನು ಮರುಪಡೆಯುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯೂ ಆಗಿದೆ. ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಹಲವಾರು ಬಾರಿ ಆನ್-ಸ್ಟ್ರೀಮ್ ಸಮಾನ ಖಿನ್ನತೆಯನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ, ಆದ್ದರಿಂದ H2 ಚೇತರಿಕೆ ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಖಾತ್ರಿಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಬಹುದು.

(3) PSA-H2 ಪ್ಲಾಂಟ್ ಪಾಥ್‌ವೈಸ್ ಒತ್ತಡ ಬಿಡುಗಡೆ

ಸಮಾನವಾದ ಡಿಪ್ರೆಶರೈಸೇಶನ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ನಂತರ, ಹೊರಹೀರುವಿಕೆಯ ದಿಕ್ಕಿನಲ್ಲಿ ಹೊರಹೀರುವಿಕೆಯ ಗೋಪುರದ ಮೇಲಿರುವ ಉತ್ಪನ್ನ H2 ಅನ್ನು ತ್ವರಿತವಾಗಿ ಪಾಥ್‌ವೈಸ್ ಒತ್ತಡ ಬಿಡುಗಡೆ ಅನಿಲ ಬಫರ್ ಟ್ಯಾಂಕ್‌ಗೆ (PP ಗ್ಯಾಸ್ ಬಫರ್ ಟ್ಯಾಂಕ್) ಮರುಪಡೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ, H2 ನ ಈ ಭಾಗವನ್ನು ಆಡ್ಸರ್ಬೆಂಟ್‌ನ ಪುನರುತ್ಪಾದನೆಯ ಅನಿಲ ಮೂಲವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಖಿನ್ನತೆ.

(4) PSA-H2 ಪ್ಲಾಂಟ್ ರಿವರ್ಸ್ ಡಿಪ್ರೆಶರೈಸೇಶನ್

ಪಾಥ್‌ವೈಸ್ ಒತ್ತಡ ಬಿಡುಗಡೆ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ನಂತರ, ಹೊರಹೀರುವಿಕೆಯ ಮುಂದಕ್ಕೆ ಸ್ಥಾನವು ಹಾಸಿಗೆ ಪದರದ ನಿರ್ಗಮನವನ್ನು ತಲುಪಿದೆ. ಈ ಸಮಯದಲ್ಲಿ, ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ಗೋಪುರದ ಒತ್ತಡವು 0.03 ಬಾರ್ಗ್‌ಗೆ ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ ಅಥವಾ ಹೊರಹೀರುವಿಕೆಯ ಪ್ರತಿಕೂಲ ದಿಕ್ಕಿನಲ್ಲಿ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರಮಾಣದ ಹೊರಹೀರುವ ಕಲ್ಮಶಗಳು ಆಡ್ಸರ್ಬೆಂಟ್‌ನಿಂದ ನಿರ್ಜಲೀಕರಣಗೊಳ್ಳಲು ಪ್ರಾರಂಭಿಸುತ್ತವೆ. ರಿವರ್ಸ್ ಡಿಪ್ರೆಶರೈಸೇಶನ್ ಡಿಸಾರ್ಬ್ಡ್ ಗ್ಯಾಸ್ ಟೈಲ್ ಗ್ಯಾಸ್ ಬಫರ್ ಟ್ಯಾಂಕ್‌ಗೆ ಪ್ರವೇಶಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಶುದ್ಧೀಕರಿಸುವ ಪುನರುತ್ಪಾದನೆ ಅನಿಲದೊಂದಿಗೆ ಮಿಶ್ರಣವಾಗುತ್ತದೆ.

(5) PSA-H2 ಸಸ್ಯ ಶುದ್ಧೀಕರಣ

ರಿವರ್ಸ್ ಡಿಪ್ರೆಶರೈಸೇಶನ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ನಂತರ, ಆಡ್ಸರ್ಬೆಂಟ್‌ನ ಸಂಪೂರ್ಣ ಪುನರುತ್ಪಾದನೆಯನ್ನು ಪಡೆಯಲು, ಹೊರಹೀರುವಿಕೆಯ ಹಾಸಿಗೆಯ ಪದರವನ್ನು ತೊಳೆಯಲು ಹೊರಹೀರುವಿಕೆಯ ಪ್ರತಿಕೂಲ ದಿಕ್ಕಿನಲ್ಲಿ ಪಾಥ್‌ವೈಸ್ ಒತ್ತಡದ ಬಿಡುಗಡೆಯ ಅನಿಲ ಬಫರ್ ಟ್ಯಾಂಕ್‌ನ ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಅನ್ನು ಬಳಸಿ, ಭಾಗಶಃ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಮತ್ತಷ್ಟು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಆಡ್ಸರ್ಬೆಂಟ್ ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಆಗಿರಬಹುದು. ಪುನರುತ್ಪಾದನೆ, ಈ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ನಿಧಾನವಾಗಿ ಮತ್ತು ಸ್ಥಿರವಾಗಿರಬೇಕು ಇದರಿಂದ ಪುನರುತ್ಪಾದನೆಯ ಉತ್ತಮ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಖಚಿತಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಬಹುದು. ಪುನರುತ್ಪಾದನೆ ಅನಿಲವನ್ನು ಶುದ್ಧೀಕರಿಸುವುದು ಬ್ಲೋಡೌನ್ ಟೈಲ್ ಗ್ಯಾಸ್ ಬಫರ್ ಟ್ಯಾಂಕ್ ಅನ್ನು ಸಹ ಪ್ರವೇಶಿಸುತ್ತದೆ. ನಂತರ ಅದನ್ನು ಬ್ಯಾಟರಿ ಮಿತಿಯಿಂದ ಹೊರಗೆ ಕಳುಹಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಇಂಧನ ಅನಿಲವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.

(6) PSA-H2 ಪ್ಲಾಂಟ್ ಈಕ್ವಲ್ ರಿಪ್ರೆಶರೈಸೇಶನ್

ಪುನರುತ್ಪಾದನೆಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಶುದ್ಧೀಕರಿಸಿದ ನಂತರ, ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ಗೋಪುರವನ್ನು ಪ್ರತಿಯಾಗಿ ನಿಗ್ರಹಿಸಲು ಇತರ ಹೊರಹೀರುವಿಕೆ ಗೋಪುರದಿಂದ ಹೆಚ್ಚಿನ ಒತ್ತಡದ H2 ಅನ್ನು ಬಳಸಿ, ಈ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಸಮಾನ-ಡಿಪ್ರೆಶರೈಸೇಶನ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯೊಂದಿಗೆ ಅನುರೂಪವಾಗಿದೆ, ಇದು ಒತ್ತಡವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಮಾತ್ರವಲ್ಲ, ಆದರೆ H2 ಅನ್ನು ಚೇತರಿಸಿಕೊಳ್ಳುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯೂ ಆಗಿದೆ. ಇತರ ಹೊರಹೀರುವಿಕೆ ಗೋಪುರದ ಬೆಡ್ ಡೆಡ್ ಸ್ಪೇಸ್‌ನಲ್ಲಿ. ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಹಲವಾರು ಬಾರಿ ಆನ್-ಸ್ಟ್ರೀಮ್ ಸಮಾನ-ದಮನ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿದೆ.

(7) PSA-H2 ಸಸ್ಯ ಉತ್ಪನ್ನ ಅನಿಲ ಅಂತಿಮ ನಿಗ್ರಹೀಕರಣ

ಹಲವಾರು ಬಾರಿ ಸಮಾನವಾದ ನಿಗ್ರಹ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳ ನಂತರ, ಹೊರಹೀರುವಿಕೆಯ ಗೋಪುರವನ್ನು ಸ್ಥಿರವಾಗಿ ಮುಂದಿನ ಹೊರಹೀರುವಿಕೆ ಹಂತಕ್ಕೆ ಬದಲಾಯಿಸಲು ಮತ್ತು ಉತ್ಪನ್ನದ ಶುದ್ಧತೆಯನ್ನು ಏರಿಳಿತವಾಗದಂತೆ ಖಚಿತಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಲು, ಹೊರಹೀರುವಿಕೆ ಟವರ್‌ನ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಹೊರಹೀರುವಿಕೆ ಒತ್ತಡಕ್ಕೆ ಹೆಚ್ಚಿಸಲು ಬೂಸ್ಟ್ ನಿಯಂತ್ರಣ ಕವಾಟದ ಮೂಲಕ ಉತ್ಪನ್ನ H2 ಅನ್ನು ಬಳಸಬೇಕಾಗುತ್ತದೆ. ನಿಧಾನವಾಗಿ ಮತ್ತು ಸ್ಥಿರವಾಗಿ.

ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ನಂತರ, ಹೊರಹೀರುವಿಕೆ ಗೋಪುರಗಳು ಸಂಪೂರ್ಣ "ಹೊರಹೀರುವಿಕೆ-ಪುನರುತ್ಪಾದನೆ" ಚಕ್ರವನ್ನು ಪೂರ್ಣಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಮುಂದಿನ ಹೊರಹೀರುವಿಕೆಗೆ ತಯಾರಿ ಮಾಡುತ್ತದೆ.